MicroLine-300是一款桌上型半自動CD測量系統(tǒng).

主要技術(shù)參數(shù):

◆    測量范圍(XYZ):標準:200×200×25mm;可選:300x300x25

◆    視場內(nèi)測量精度:10nm(100X 鏡頭);Z軸ju jiao范圍:25 mm

◆    視場內(nèi)測量范圍:~400um;

◆    視場內(nèi)測量重復性(100x 物鏡):  晶圓上<(1δ); 

                                                   掩模板上(1δ);   

◆    承重:2kg

◆    標配鏡頭10x,可選鏡頭:5X, 20X, 50X, 100X

MicroLineTM 300是一款高性能測量晶圓,、光罩,、MEMS和-微加工設備等關(guān)鍵尺寸的自動化測量系統(tǒng).該系統(tǒng)配備了高質(zhì)量光學顯微鏡和精密移動平臺,可對200mm的晶圓上μm到400μm的特征尺寸進行全自動的精密視場測量.

n  200 x200mm精密X-Y平臺

n  基于視覺的自動ju jiao獲得某佳影像質(zhì)量

n  自動照明可編程光強

n  用于測量透明層,、不規(guī)則邊緣的線,、厚膜等的強勁性能

n  完全可編程的序列,包括自動ju jiao和關(guān)鍵尺寸測量

n  電動的6目物鏡轉(zhuǎn)換器,軟件控制

n  可選的透射照明

技術(shù)規(guī)格:

- 測量行程: 200 x 200 x25mm(XYZ)

- 平臺運行: 交叉滾軸手動同軸定位和快速釋放

- 視場內(nèi)的測量精度: μm (用100x物鏡)

- 特征尺寸: 視場內(nèi)μm - 400μm

- FOV測量重復性: <μm on wafers (用100x物鏡)

<μm on photomasks (用100x物鏡)

- 照明: 石英鹵素燈, 反射光

      自動照明

- 低噪音CCD VGA格式攝像頭

- 圖像處理60幀每秒

MicroLine 300的典型應用包括:

l  晶圓

l  光罩

l  MEMS

l  微型組件

測量類型:

n  關(guān)鍵尺寸:

線寬  Linewidth

節(jié)距  Pitch

間隙  SPACing

n  Overlay

            Multi-layer registration

Box in box

Circle

Edge roughness

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MicroLine-300是一款桌上型半自動CD測量系統(tǒng).

主要技術(shù)參數(shù):

◆    測量范圍(XYZ):標準:200×200×25mm;可選:300x300x25

◆    視場內(nèi)測量精度:10nm(100X 鏡頭);Z軸ju jiao范圍:25 mm

◆    視場內(nèi)測量范圍:~400um;

◆    視場內(nèi)測量重復性(100x 物鏡):  晶圓上<(1δ); 

                                                   掩模板上(1δ);   

◆    承重:2kg

◆    標配鏡頭10x,可選鏡頭:5X, 20X, 50X, 100X

MicroLineTM 300是一款高性能測量晶圓,、光罩,、MEMS和-微加工設備等關(guān)鍵尺寸的自動化測量系統(tǒng).該系統(tǒng)配備了高質(zhì)量光學顯微鏡和精密移動平臺,可對200mm的晶圓上μm到400μm的特征尺寸進行全自動的精密視場測量.

n  200 x200mm精密X-Y平臺

n  基于視覺的自動ju jiao獲得某佳影像質(zhì)量

n  自動照明可編程光強

n  用于測量透明層,、不規(guī)則邊緣的線、厚膜等的強勁性能

n  完全可編程的序列,包括自動ju jiao和關(guān)鍵尺寸測量

n  電動的6目物鏡轉(zhuǎn)換器,軟件控制

n  可選的透射照明

技術(shù)規(guī)格:

- 測量行程: 200 x 200 x25mm(XYZ)

- 平臺運行: 交叉滾軸手動同軸定位和快速釋放

- 視場內(nèi)的測量精度: μm (用100x物鏡)

- 特征尺寸: 視場內(nèi)μm - 400μm

- FOV測量重復性: <μm on wafers (用100x物鏡)

<μm on photomasks (用100x物鏡)

- 照明: 石英鹵素燈, 反射光

      自動照明

- 低噪音CCD VGA格式攝像頭

- 圖像處理60幀每秒

MicroLine 300的典型應用包括:

l  晶圓

l  光罩

l  MEMS

l  微型組件

測量類型:

n  關(guān)鍵尺寸:

線寬  Linewidth

節(jié)距  Pitch

間隙  Spacing

n  Overlay

            Multi-layer registration

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