吉致電子JEEZ TSV CMP CU Slurry 銅化學(xué)機(jī)械拋光液 |
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無錫吉致電子科技有限公司25年研發(fā)生產(chǎn)——TSV CMP CU Slurry/TSV銅化學(xué)機(jī)械拋光液/半導(dǎo)體cmp拋光液slurry/TSV Cu Slurry/銅拋光液/TSV硅通孔拋光液/TSV CU 拋光漿料
TSV硅通孔的作用: 提高集成度,、降低功耗系統(tǒng)地集成數(shù)字電路、模擬電路.通過銅,、鎢,、多晶硅等導(dǎo)電物質(zhì)的填充實(shí)現(xiàn)硅通孔的垂直電氣互連,用于3D封裝TSV阻擋層化學(xué)機(jī)械拋光液.
吉致電子JEEZ用于3D封裝TSV化學(xué)機(jī)械拋光液:
可定制選擇穩(wěn)定的選擇比,去除速率,對氧化物/氮化物的選擇比.硅精拋液系列具有低缺陷的優(yōu)點(diǎn).Cu拋光液系列具有理想的硅和二氧化硅去除速率和選擇比.涵蓋TSV銅/阻擋層Slurry,TSV晶背銅/介質(zhì)層拋Slurry、TSV晶背硅Slurry,、TSV晶背硅/銅Slurry等.具有高去除速率,、選擇比可調(diào)等優(yōu)點(diǎn).以及集成電路制造工藝中淺槽隔離的拋光等等.
我司產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):
1.懸浮性好,不易沉淀,使用方便.
2.顆粒分散均勻,不團(tuán)聚,軟硬度適中,有效避免拋光過程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷.
3.運(yùn)用拋光過程中的化學(xué)新作用,提高拋光速度,改善拋光表面的質(zhì)量.
4.分散性好、乳液均一,程度提升拋光速率的同時(shí)降低微劃傷的概率,可以提高拋光精度.
5.無粉塵產(chǎn)生,關(guān)注環(huán)保和人體健康安全.
可定制化:我們的拋光液可以根據(jù)客戶需求定制不同的PH,、粒徑,、濃度、穩(wěn)定離子等.
包裝方式:25KG/桶(也可依客戶需求)
無錫吉致電子科技有限公司
聯(lián)系人:李女士
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