PACe: pre-wrap !important; position: unset !important;">無錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——射頻濾波器拋光液 /半導(dǎo)體拋光液 /CMP拋光液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液/射頻濾波器Slurry/射頻濾波器CMP化學(xué)機(jī)械拋光液Slurry/射頻濾波器CMP集成電路拋光液/射頻濾波器拋光液拋光漿料Slurry

產(chǎn)品名稱:射頻濾波器拋光液/半導(dǎo)體拋光液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液

產(chǎn)品簡介:射頻濾波器拋光液適用于集成電路當(dāng)中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化.

具有高的銅去除速率,碟型凹陷可調(diào),低缺陷等特性.可應(yīng)用于邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產(chǎn)使用.清除集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學(xué)物殘留,以防銅表面腐蝕,降低表面缺陷.

我司產(chǎn)品優(yōu)點: 

1.懸浮性好,不易沉淀,使用方便.

2.顆粒分散均勻,不團(tuán)聚,軟硬度適中,有效避免拋光過程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷.

3.運(yùn)用拋光過程中的化學(xué)新作用,提高拋光速度,改善拋光表面的質(zhì)量.

4.分散性好,、乳液均一,程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率,可以提高拋光精度.

5.無粉塵產(chǎn)生,關(guān)注環(huán)保和人體健康安全.

可定制化:我們的拋光液可以根據(jù)客戶需求定制不同的PH、粒徑、濃度,、穩(wěn)定離子等.

包裝方式:25KG/桶(也可依客戶需求)

無錫吉致電子科技有限公司

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