新興的光電材料生產(chǎn),、加工,、清洗;LCD液晶顯示屏,、PDP等離子顯示屏,、高品質(zhì)燈管顯像管,、微電子工業(yè),、FPC/pcb線路板,、電路板、大規(guī)模,、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水,、超純水清洗半成品、成品.集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性,、自動化程度,、生產(chǎn)的連續(xù)性,、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求.

光學材料生產(chǎn)用超純水設備技術要求:

光電光學玻璃行業(yè)的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水,在設備設計上,采用成熟、可靠,、先進,、自動化程度高的兩級(RO)反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質(zhì)出水電阻率達到 MΩ.cm.關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產(chǎn)品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統(tǒng)自動化程度高,系統(tǒng)穩(wěn)定性高.大大節(jié)省人力成本和維護成本,水利用率高,運行可靠,經(jīng)濟合理.使設備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性.

光學材料生產(chǎn)用超純水設備標準:

我公司LED、LCD顯像管,、液晶顯示器用超純水出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標準,、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm,、10MΩ.cm,、2MΩ.cm、Ω.cm五級標準),、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準,、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準,、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準.