電子元器件清洗超純水設(shè)備|元器件用水設(shè)備

電子元器件包括半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝,、液晶顯示,、高精度線路板、光電器件,、各種電子器件,、微電子工業(yè).集成電路的集成度越高,線寬越窄,對清洗用水質(zhì)的要求也越高.我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)要求分為五個行業(yè)等級,為18MΩ.cm、15MΩ.cm,、10MΩ.cm,、2MΩ.cm、Ω.cm,用來滿足電子元器件行業(yè)用水要求.

電子元器件用超純水處理設(shè)備在20世紀(jì)90年-始逐漸發(fā)展發(fā)展起來,也是純水生產(chǎn)技術(shù)的一次-式的跨越,應(yīng)用到的領(lǐng)域也很多.

電子元器件清洗用超純水處理設(shè)備工藝詳情:

1,、鹽處理(EDI):主要去除水中的各種無機鹽離子.出水符合國家純凈水標(biāo)準(zhǔn)GB-17324-98,超純水電阻率:10-18MΩ.CM.

2,、石英砂過濾:濾除原水中細(xì)小顆粒、懸浮物,、膠體等雜質(zhì).

3,、活性炭過濾:除去水中游離氯和有機物以保護(hù)反滲透設(shè)施.

4、阻垢劑加藥:防止反滲透膜受難溶鹽結(jié)垢的污染.

5,、精密過濾:截留原水中的大于5微米的顆粒,以保證反滲透膜不被大顆粒的懸浮物劃傷.

6,、高壓泵:為反滲透膜提供足夠的進(jìn)水壓力,以保證反滲透正常產(chǎn)水量.

7,、反滲透裝置:主要去除水中的各種無機鹽離子.